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金剛石對頂砧光學陆续在流低溫恆溫器（DAC恆溫器）是專為金剛石對頂砧實驗設計，它採用液氦或液氮降溫，樣品位於真空中，可以實現5K~300K（液氦）以及80K~300K（液氮）溫度範圍內的精確變溫和控溫。樣品座可以配合不同的金剛石壓力包，為了滿足客戶的光學測試需要，工作距離可以按照客戶的要求進行設計。它可以根據實驗需要配置各種電學引線，如磷銅線、錳銅線、同軸電纜等。恆溫器標配透明熔融石英窗，透射波長範圍從紫外到近紅外，可選配其它窗口材料滿足從遠/中紅外、紫外到X射線的寬譜範圍的測試。恆溫器內置加熱器和高精度溫度傳感器，顺利获得配套的傳輸管線、液氦/液氮杜瓦將陆续在流動的製冷劑（液氦或者液氮）蒸發吸熱作為冷源降低樣品座溫度，配合外部的控溫儀實現低溫恆溫器的精準變溫和控溫。

產品特點：

• 專為金剛石對頂砧實驗設計
• 给予多種金剛石壓力包樣品座，滿足不同的測試需求
• 工作距離滿足不同的光學測試 
• 原位螺杆加壓
• 溫度範圍廣：從5K到300K
• 樣品在真空中，採用熱傳導冷卻
• 標配光學窗口可視範圍38mm
• 配備溫度控制系統
• 可選配擴壓器，傳動比1:100，包括擴壓器和壓力包固定器
• 可選多種類型樣品座，如：光學樣品座、粉末樣品座、液體樣品座探針樣品座及多電極電學樣品座等，多種樣品座可互換

恆溫器圖紙

可選配置——擴壓器

可以根據不同的實驗要求，给予不同轉速比、無磁性、低溫型等多種類型的擴壓產品。傳動比為1:100。

可選配置——對頂砧頂蓋

给予不同的適配恆溫器頂蓋，可以原位加壓，保證良好的溫度和密封性能。根據不同的實驗，一個恆溫器也可配置不同的頂蓋進行互換。

可選配置——氣路

给予氣路可以進行氣膜加壓。

可選配置——杜瓦

给予各種規格的液氮、液氦杜瓦。

可選配置——分子泵組

可以根據客戶的需求，给予各種分子泵組。

典型案例
此光學陆续在流金剛石對頂砧恆溫器（DAC恆溫器）是按照老師的實驗進行設計
• 樣品座按照老師的壓力包非標設計
• 1個螺杆原位加壓
• 配合擴壓器，傳動比1：100
• 安裝兩個壓力包固定器，加壓時壓力包穩定固定，不會因為扭力過大造成恆溫器的損壞
• 一個石英窗口用於打光，從壓力包的表面到窗口的外表面距離<10mm
• 第二個溫度傳感器懸掛在壓力包旁邊，第三個溫度傳感器安裝在DAC holder上，用來溫度監視

溫度測試曲線（安裝壓力包，使用液氮）：

    300K溫度穩定性（穩定性達到6mK）                     200K溫度穩定性（穩定性達到5mK）

         80K溫度穩定性（穩定性達到7mK）                        降溫曲線（從室溫到80K的降溫時間為50分鐘）