閉循環低溫恆溫器CCV-4K
CCV-4K系列閉循環恆溫器,溫度範圍廣:從 4 K 到 325 K(500K或800K可選),樣品在真空中,採用熱傳導冷卻樣品空間大,可搭配多種類型樣品座可對各種薄膜、塊體、粉末和液體樣品進行測試,標配4個光學窗口,詳細參數點擊諮詢。
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CCV-4K系列閉循環恆溫器,溫度範圍廣:從 4 K 到 325 K(500K或800K可選),樣品在真空中,採用熱傳導冷卻樣品空間大,可搭配多種類型樣品座可對各種薄膜、塊體、粉末和液體樣品進行測試,標配4個光學窗口,詳細參數點擊諮詢。
由於我國氦資源稀缺,長期依賴進口,而美國作為氦資源大國將其視為戰略儲備並限制出口,導致液氦價格不斷上漲。這種價格上漲以及進口的限制,對我國科研事業的進展造成了嚴重的影響。因此,閉循環制冷機誕生了。它最典型的特點就是無需再消耗昂貴的製冷劑,使得低溫獲取的成本大幅降低。閉循環恆溫器已經成為了實驗室中最常用的樣品冷卻系統。
CCV-4K系列閉循環恆溫器,採用了更加人性化的設計,尤其是樣品座部分的非標定製,滿足了不同客戶的樣品在低溫真空環境下的電學、光學、或光電性能的測試。可配置各種不同光學附件和電學接頭,滿足不同實驗對樣品冷卻的要求。真空罩底部有螺紋孔,匹配支架安裝法蘭,可以將恆溫器直接固定到光學平台上。
系統特點:
• 溫度範圍廣:從 4 K 到 325 K(500K或800K可選)
• 樣品在真空中,採用熱傳導冷卻
• 樣品空間大,可搭配多種類型樣品座可對各種薄膜、塊體、粉末和液體樣品進行測試
• 鋁製真空外罩和防輻射屏,採用分段設計,方便快速換樣
• 標配4個光學窗口可視範圍(38mm)
• 配備多場溫度控制系統
• 支持標準光學樣品座、粉末樣品座、液體樣品座電阻樣品座、探針樣品座及電阻樣品座,多種樣品座可供選擇
• 降溫速度快可在1小時內降至5K
• 樣品室採用快卸式卡箍設計,便於更換樣品
• 真空外罩預留盲板,可選裝多種電學測量配置(如SMA、BNC、三同軸、多針電學真空饋通磷銅線、極細同軸線、半剛性微波電纜等)
參數和指標:
型號 | CCV-4K02 | CCV-4K12 |
溫度範圍 | 4K~325K | 4K~325K |
溫度穩定性 | ±50mK | ±50mK |
初始冷卻時間 | 120 min to 5K | 60 min to 5K |
樣品環境 | 樣品在真空中 | 樣品在真空中 |
真空度 | 10-5 mbar | 10-5 mbar |
冷頭型號 | RDK-101D | RDK-408D2 |
製冷功率 | 0.1W @ 4.2K | 1.0W @ 4.2K |
壓縮機型號 | CNA-11C | F-50H |
系統重量 | 24.4Kg(系統)7.2Kg (冷頭) | 35Kg(系統)18Kg (冷頭) |
尺寸 | 286×286×648mm | 286×286×648mm |